Descriptif du sujet
Identifier et caractériser des défauts générés par les procédés technologiques lors de la fabrication de dispositifs d’imagerie infrarouge haute-performance, en s’appuyant notamment sur la microdiffraction Laue et la nano-tomographie FIB-SEM pour établir des corrélations entre procédés, défauts et performances finales.
Positionnement et intérêt du sujet
Les procédés de fabrication de capteurs sont complexes et induisent divers défauts pouvant affecter les performances optoélectroniques. La maîtrise de ces défauts est un enjeu clé pour optimiser les performances des détecteurs. Le sujet est au croisement de la recherche fondamentale et appliquée. Il vise à caractériser les défauts induit par le procédé technologique par une approche multi-échelle considérant à la fois une assemblée de pixels tout comme chaque pixel individuellement (micro-diffraction Laue, nano-tomographie FIB-SEM, microscopie électronique) pour guider l’amélioration des procédés technologiques.
L’enjeu est de faire le lien entre défauts et dégradation des performances afin de répondre aux besoins croissants en imagerie infrarouge haute-performance.
Aspect novateur
Recours combiné à des techniques avancées rarement associées, permet une identification, qualitative et quantitative des défauts. Cette approche ouvre de nouvelles perspectives pour une compréhension profonde des défauts liés aux procédés technologiques.
De plus, la volonté de corréler les défauts détectés aux dégradations spécifiques des performances des capteurs permet d’orienter les améliorations de procédé.
Moyens utilisés
Élaboration par épitaxie (EPL ou EJM), accès aux moyens d’élaboration technologiques au sein de la salle blanche du Leti combiné au savoir-faire du laboratoire permettant d’élaborer des détecteurs aux meilleures performances mondiales, ESRF (EXAFS, μ-diff, GIX, TomoX…), plateforme de nano-caractérisation du LETI.
Directeur de thèse: X. Biquard
Encadrants : C. Lobre, P-H. Jouneau
Services impliqués: SMTP / MEM
Financement envisagé: CTBU